반도체 반도체 4 pm 설계 시운전
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작성자admin 댓글 0건 조회 2,531회 작성일 20-03-05 22:52본문
반도체 설비 중 웨이퍼 ELS에 의한 유기서 세정 IPA에 의한 무기성 세정후 DRY장치로서
챔버4개에 각각 웨이퍼를 고속회전하는 스핀들 ELS 케미컬공급시스템 고압스팀샤워장치가 내장되어 웨이퍼를 자동 공급 세정 건조하여
EFDM에의한 로딩 언로딩 장치입니다. 웨이퍼의 공정사이에 유기 무기성 파티클 세정 건조하는 기능을 갖추고 있으며 고압과 일정온도에 의한
세정속도를 높이고 작업자 편리하도록 로봇트 로딩과 챔버에 EFDM에 의한 자동 반송 반출이 가능합니다.
1매당 30초이내 세정가능
챔버4개에 각각 웨이퍼를 고속회전하는 스핀들 ELS 케미컬공급시스템 고압스팀샤워장치가 내장되어 웨이퍼를 자동 공급 세정 건조하여
EFDM에의한 로딩 언로딩 장치입니다. 웨이퍼의 공정사이에 유기 무기성 파티클 세정 건조하는 기능을 갖추고 있으며 고압과 일정온도에 의한
세정속도를 높이고 작업자 편리하도록 로봇트 로딩과 챔버에 EFDM에 의한 자동 반송 반출이 가능합니다.
1매당 30초이내 세정가능
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